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發(fā)布日期: 2019-06-20 10:38:01
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鉭靶材
用途:主要應(yīng)用于半導(dǎo)體鍍膜和光學(xué)鍍膜。
純度:99.95%~99.99%。
規(guī)格:方靶材,厚度x寬度x長度=5~25x≤800x≤2000(mm)
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